Reinstwassersystem für die Halbleiterindustrie

Reinstwassersystem für die Halbleiterindustrie

Reinstwassersystem für die Halbleiterindustrie Einführung in RO-Membran und EDI-Technologie Bei der Umkehrosmose wird da
Basisinformation
Modell Nr.WTRO
ZertifizierungISO9001, CE
Salzrückweisungsrate99,5 %
AnwendungReinwasseraufbereitung
Kapazität1-100t/h
VerwendungReinstwasser
RohwasserLeitungswasser, kommunales Wasser, Industriewasser usw.
FunktionEntsalzung, Entfernung von Ionen
PrinzipRO, Elektrodialyse und Ionenaustausch
GewaltDruckdifferenz und Potenzialdifferenz
Erholungsrate(Permeatfluss / Feedfluss) X 100 %
MaterialUPVC + Edelstahl/GFK
GarantieEin Jahr
TransportpaketHolzkiste
SpezifikationRO+RO+EDI, RO+RO+EDI+Polieren Mischbett
WarenzeichenWentong
HerkunftChina
HS-Code8421219990
Produktionskapazität500 Sätze/Jahr
Produktbeschreibung
Reinstwassersystem für die Halbleiterindustrie
ProduktnameUltrareines Wassersystem
GrößeJe nach Bedarf
AufbauRohwassertank, Wasserpumpe, Multimediafilter, Aktivkohlefilter, Enthärter, Patronenfilter, Hochdruckpumpe, zweistufige RO-Einheit, EDI-Einheit, Poliermischbett, Dosiersystem, Waschpumpe und Tank, Reinwassertank, UV Sterilisator, Ozonsterilisator, Instrumente und anderes Zubehör.
MaterialUPVC + Edelstahl, FRP
AnwendungChemische, pharmazeutische Industrie, Elektrogalvanisierungsindustrie, Elektronikreinigung, Solarphotovoltaik usw.

Ultra Pure Water System for Semiconductor Industry

Ultra Pure Water System for Semiconductor Industry

Ultra Pure Water System for Semiconductor Industry


Einführung in die RO-Membran- und EDI-Technologie
Bei der Umkehrosmose wird das Lösungsmittel (normalerweise Wasser) in der Lösung durch eine Umkehrosmosemembran (oder semipermeable Membran) mit ausreichendem Druck abgetrennt. Daher spricht man von Umkehrosmose. Umkehrosmose als effiziente Entsalzungstechnologie kann Verunreinigungen wie z B. anorganische Ionen, Bakterien, Viren, organische Stoffe und Kolloide im Rohwasser, um hochwertiges gereinigtes Wasser zu erhalten. Abhängig vom unterschiedlichen osmotischen Druck verschiedener Materialien kann die Umkehrosmosemethode verwendet werden, um den Zweck der Trennung, Extraktion und Reinigung zu erreichen und Konzentration.

Ultra Pure Water System for Semiconductor Industry


Die EDI-Technologie (Elektrodeionisierung) kombiniert Elektrodialysetechnologie und Ionenaustauschtechnologie, um die gerichtete Wanderung von Ionen unter der Wirkung eines elektrischen Gleichstromfeldes durch die selektive Permeation von Anionen- und Kationenaustauschmembranen für Anionen und Kationen und den Austausch von Ionen durch Ionenaustausch zu erreichen Harze. Um die Tiefenentsalzung des Wassers abzuschließen, kann die Wasserqualität mehr als 15 MΩ.cm erreichen.
Während der Entsalzung regenerieren Wasserstoffionen und Hydroxidionen, die durch Wasserionisierung erzeugt werden, das Ionenaustauscherharz, sodass es kontinuierlich hochreines Wasser ohne chemische Säure-Base-Regeneration produzieren kann.

Ultra Pure Water System for Semiconductor Industry


Technische Parameter
ModellKapazität (LPH)Leistung (kW)RO-Membran (8040/4040)
RO-100010002.54040
RO-200020003.5
RO-300030004.5
RO-400040006.58040
RO-500050008
RO-60006000
RO-8000800012
RO-100001000018
RO-1500015000
RO-200002000028

Prozessablauf des RO-Systems
Rohwasser → Vorbehandlung → RO-Einheit → Zweistufige RO-Einheit → EDI-Einheit → Feines MischbettAusstellung für Wasseraufbereitungsgeräte

 


FAQ1.
F: Welche Produkte bieten Sie an? A: Wir sind auf RO-Systeme, EDI-Systeme, UF-Systeme, Abwasseraufbereitungsanlagen usw. spezialisiert.2.
F: Welche Informationen benötigen Sie vor der Bestellung? A1: Was ist Ihr Rohwasser? A2: Wie hoch ist die Kapazität pro Stunde der Ausrüstung? A3: Was ist die Anwendung von Reinigungswasser?3.
F: Wie lang ist Ihre Lieferzeit? A: Im Allgemeinen sind es 30 Tage, abhängig von Ihrem Projekt.

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